Optris Xi 80 LT ETH – 輕便型工業自主式熱成像相機
商品編號Optris Xi 系列的 Xi80 LT ETH 智慧型熱像儀，結合紅外線測溫儀的測溫功能與熱像儀的完整影像分析能力。採用長波紅外線技術，可在 –20 °C 至 900 °C 的範圍內進行非接觸式溫度量測。搭載 80 × 80 像素 感測器，距離與測量光斑直徑比（D:S）最高可達 190:1，即使在較遠距離下，也能清楚掌握目標的溫度分布。相較於僅提供單點溫度資訊的紅外線測溫儀，Xi80 的熱點搜尋功能可透過完整熱影像，呈現目標區域的溫度與空間分布，協助使用者快速辨識異常熱點。
Xi80 LT ETH 採用非制冷式微測輻射熱計技術，兼具成本效益與堅固耐用的結構設計，光學系統無需移動式元件。精巧的機身適合固定式安裝與長期監測，並可選配水冷系統、空氣吹掃裝置及防護外殼，以因應嚴苛的工業環境。多樣化的連接介面與安裝配件，也讓設備整合更加靈活便利。
Xi80 LT ETH 支援 USB 與 Ethernet 連線，亦可獨立運作。透過自動熱點偵測、0/4–20 mA 直接類比輸出，以及 EtherNet/IP、Modbus TCP/IP、RS-485 與 PROFINET 等工業通訊介面與協定，可輕鬆整合至製程控制迴路。搭配電動對焦功能，使用者可遠端調整焦距，確保測量目標清晰成像。
Xi80 LT ETH 的影像更新率為 50 Hz，適合監測快速變化的製程。搭配 PIX Connect 軟體，可使用線掃描、影像拼接等進階功能，並支援含完整溫度資訊的熱影像錄製、分析與資料匯出。此外，亦提供軟體開發套件，滿足客製化軟體開發與設備整合需求。
產品特色
自動熱點偵測
自動找出熱點，掌握目標溫度分布。
遠端電動對焦
遠端調整焦距，距離光點比最高 190:1。
獨立運作與整合
支援 Ethernet、USB 與 0/4–20 mA 類比輸出。
影像分析與記錄
搭配 PIX Connect，進行熱影像記錄、分析與資料匯出。
產品描述與功能深度解析
I. 產品定位、量測原理與整體特色
Optris Xi80 熱像儀是 Xi 系列中的一款創新、經濟實惠、高品質且高精度的非接觸式紅外線熱像儀。此熱像儀工作於長波紅外線波段（LT：8 至 14 µm），能擷取熱輻射資料並提供精確的表面溫度測量。Optris Xi80 熱像儀具備廣泛的溫度測量範圍、高精度與可自訂的視場設定，能夠滿足各種產業對於穩定溫度監測的需求。
Xi80 熱像儀利用價格實惠的紅外線探測器與獨特的設計架構，顯著降低遠端工業溫度測量的整體成本。這款結構精良、經濟實惠的工業熱像儀，在多數測量應用上的性能優於傳統單點式高溫計。此紅外線熱像儀能夠捕捉完整的熱分佈模式，使操作人員能夠更深入了解製程中的熱行為、熱變化與溫度不均狀況，進而提升製程穩定度與品質控制能力。
II.影像解析度、量測範圍與光學效能
這款專為工業用途設計與製造的低解析度熱像儀（80 × 80 像素），可有效擷取 -20 °C 至 900 °C 的寬廣溫度範圍內之溫度資料，適用於各類低溫至高溫製程應用。Optris Xi80 紅外線熱像儀擁有高達 190:1 的出色距離光斑比，即使在遠距離條件下仍能確保精確的溫度測量。
此卓越的光斑比超越現代多數高溫計的光學性能，使 Xi80 能夠對遠距離目標進行更精細的監測。此外，其電動調焦功能可讓使用者由遠端調整測量焦距，無需接近高溫或危險區域即可完成設定，大幅提升操作便利性與安全性。
III.工業級結構設計與固定式成像架構
Optris 成像系統為專為固定應用最佳化的非冷卻前視紅外線（FLIR）熱成像相機，採用非冷卻二維成像偵測器，無需機械旋轉或振盪反射鏡，即可在紅外線波長範圍內產生穩定的輻射熱影像。相較於傳統線掃描式應用，這種非冷卻輻射熱計技術可實現更可靠、更經濟且更堅固耐用的系統設計。
Optris Xi80 熱像儀採用工業級堅固耐用結構，可在嚴苛環境下長時間穩定運行，是需要於製造過程中進行精確紅外線溫度測量之製程工程師的重要工具。其緊湊、耐用且具防水特性的設計，使其非常適合固定安裝或外掛安裝，能夠在各種工業環境中長期使用。
IV. 通訊介面、智慧運作、軟體與配件支援
Optris Xi80 紅外線熱像儀主要介面為 USB 或乙太網，可直接連接至電腦使用。此外，此熱像儀具備智慧自主運作功能，可在無需額外電腦與複雜軟體編碼的情況下，直接提供紅外線溫度資料並整合至控制迴路中。
Xi80 具備自動點定位功能與直接類比輸出（0/4–20 mA），並相容於 Ethernet/IP、Modbus TCP/IP、RS-485、Profinet 等多種工業現場匯流排系統，使其成為原始設備製造商與系統整合商的理想選擇。其幀速率為 50 Hz，可用於監測快速製程。
搭配 PIX Connect 軟體，可進行線掃描、影像合併與進階影像分析等功能，並提供開發套件協助整合商建立客製化應用。Xi80 亦相容多種適用於嚴苛環境的配件，例如可將工作溫度擴展至 250°C 的水冷外殼、空氣吹掃鏡頭保護裝置，以及各式機械安裝件、電氣介面與連接線纜，確保系統在多塵、高溫或惡劣環境下仍可穩定運作。
Optris Xi 80 LT ETH 規格
| 產品型號 Model Number | Xi 80 LT ETH 12° × 12° |
Xi 80 LT ETH 30° × 30° |
Xi 80 LT ETH 55° × 55° |
Xi 80 LT ETH 80° × 80° |
|---|---|---|---|---|
| 感測器 Detector | ||||
| 光學解析度Optical resolution | 80 × 80 像素 | 80 × 80 像素 | 80 × 80 像素 | 80 × 80 像素 |
| 像素間距Pixel pitch | 34 µm | 34 µm | 34 µm | 34 µm |
| 感測器Detector | 非制冷探測器 | 非制冷探測器 | 非制冷探測器 | 非制冷探測器 |
| 光譜範圍Spectral Range | 8–14 µm | 8–14 µm | 8–14 µm | 8–14 µm |
| 光學濾光片Optical Filter | 可選： CO₂ 10.6 µm |
可選： CO₂ 10.6 µm |
可選： CO₂ 10.6 µm |
可選： CO₂ 10.6 µm |
| 幀率Frame rate | 50 Hz | 50 Hz | 50 Hz | 50 Hz |
| 光學 Optical | ||||
| 視野Field of View | 12° × 12° | 30° × 30° | 55° × 55° | 80° × 80° |
| 焦距Focal length [mm] | 12.7 | 5.1 | 3.1 | 2.3 |
| F值／光圈值F Number | 0.9 | 1.0 | 0.9 | 0.9 |
| 光學分辨率 Distance to Spot ratio (D:S) | 190 : 1 | 72 : 1 | 38 : 1 | 23 : 1 |
| 目標最小距離 Minimum Distance to target | 300 mm | 200 mm | 200 mm | 200 mm |
| 可互換光學元件 Interchangeable optics | 不可更換 | 不可更換 | 不可更換 | 不可更換 |
| 測量 Measurement | ||||
| 目標溫度範圍 Object Measurement Range | -20–900 °C | -20–900 °C | -20–900 °C | -20–900 °C |
| 精度Accuracy | ±2 °C 或 ±2% 以較大者為準 |
±2 °C 或 ±2% 以較大者為準 |
±2 °C 或 ±2% 以較大者為準 |
±2 °C 或 ±2% 以較大者為準 |
| 熱靈敏度NETD | 100 mK | 100 mK | 100 mK | 100 mK |
| 最小可偵測光斑尺寸（IFOV）：1 像素 Smallest detectable Spot Size IFOV: 1 pixel | 0.8 mm | 1.4 mm | 2.7 mm | 4.3 mm |
| 最小可測量光斑尺寸 Smallest measurable Spot Size MFOV | 1.6 mm | 2.8 mm | 5.4 mm | 8.6 mm |
| 測量視場 MFOV Measurement Field of View | 2 × 2 像素 | 2 × 2 像素 | 2 × 2 像素 | 2 × 2 像素 |
| 熱機時間Warm-up time | 10 min | 10 min | 10 min | 10 min |
| 發射率／透射率／反射率 Emissivity / Transmissivity / Reflectivity | 可調整範圍： 0.100–1.100 |
可調整範圍： 0.100–1.100 |
可調整範圍： 0.100–1.100 |
可調整範圍： 0.100–1.100 |
