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Optris Xi 05M ETH – 用於熔融金屬、鋼鐵、陶瓷測溫的自主式短波紅外線熱像儀

商品編號
產品資訊

Optris Xi 05M MeltScope 是一款短波紅外線熱像儀,專為高溫熔融金屬、鋼材及陶瓷等材料的非接觸式表面溫度量測而設計。金屬與反射性材料在長波紅外線波段通常具有較低的放射率,容易受到反射及放射率變化的影響。Xi 05M 採用適合高溫金屬量測的短波波段,有助於降低相關量測誤差,提升量測準確度與重複性。


Xi 05M MeltScope 搭載 396 × 300 像素感測器,測溫範圍涵蓋 950°C 至 2450°C,無需切換子量程。高距離光點比可支援遠距離溫度量測,搭配電動對焦功能,使用者可從遠端調整焦距。相機亦具備自主溫度處理與自動熱點偵測功能,方便持續監控製程中的溫度變化及異常區域。


本產品於德國設計與製造,採用精巧、耐用且防水的機身,適合固定式安裝。提供 Ethernet 與 USB 介面,影像更新率為 20 Hz,並可透過類比與數位製程介面整合至控制系統及機械設備。另可選配水冷與空氣吹掃裝置,因應高溫、粉塵等嚴苛工業環境。


產品特色


短波高溫量測

適合熔融金屬、鋼材及陶瓷等高溫材料,有助於降低放射率變化造成的量測誤差。

寬廣測溫範圍與清晰成像

提供 950°C~2450°C 測溫範圍及 396 × 300 像素熱影像,無需切換子量程。

遠端電動對焦

搭配高距離光點比,可從遠端調整焦距,方便監測不同工作距離的目標。

自主運作與熱點偵測

可獨立執行溫度量測並自動搜尋熱點,減少對外部電腦的依賴。

產品描述與功能深度解析

I. 短波紅外線高溫量測設計|適用金屬與反射材料

Optris Xi 05M 是一款短波紅外線熱像儀,在非接觸式熱成像領域,為複雜物件的測量提供創新性、經濟性與高精度的解決方案。此熱像儀設計工作於短波紅外線波段(05M:500 – 540 nm),可精確測量高溫鋼、鐵、黃銅、銅、錫、碳、陶瓷與半導體等材料的表面溫度。Optris Xi 05M 能夠滿足各行業嚴苛需求,提供寬廣的高溫測量範圍、卓越的精度以及可自訂的視野配置。

由非反射材料製成的測量對象通常具有高且穩定的發射率,且不受表面紋理影響,尤其是在長波光譜範圍內;相較之下,金屬與反射材料在長紅外線波長範圍內表現出較低的發射率,容易導致溫度測量結果不一致且不可靠。

II. 高溫反射材料量測原理與精度表現

Xi 05M MeltScope 紅外線熱像儀的短波長光譜範圍與大多數金屬材料的峰值發射率相匹配,可實現精確的遠距離溫度測量。根據普朗克輻射定律,波長越短,紅外線輻射越強,從而降低發射率變化對測量重複性的影響。因此,在高溫反射材料的非接觸式溫度測量應用中,應盡可能採用較短波長進行量測,以獲得更高的準確性與穩定性。

Xi 05M 亦配備自主熱點檢測功能,可自動搜尋溫度異常區域,進一步提升其在監測與檢測應用中的有效性。Xi 05M 由德國設計與製造,與長波長紅外線熱像儀相比,在工業應用中展現出更高的精度、準確度與重複性。

III. 中解析度成像與遠距光學性能|支援高溫精密量測

Xi 05M 紅外線熱像儀提供 396 × 300 像素的中等解析度熱成像,無需子量程即可測量 950°C 至 2450°C 的溫度範圍。其高距離光斑尺寸比使其能夠從相當遠的距離精確採集溫度數據,光學性能超越目前主流高溫計。電動調焦功能可實現對測量目標的遠端精確對焦。

Optris Xi 05M MeltScope 採用工業級結構設計,確保在嚴苛的工業環境中可靠運行,協助製程工程師取得精確的紅外線溫度測量數據。其緊湊、耐用且防水的設計,使其適用於固定安裝與外掛安裝,確保在各種製造環境中皆能長期穩定運作。

IV. 工業通訊介面與軟體平台|簡化系統整合與應用

Optris Xi 05M 以乙太網路作為主要介面,可與電腦無縫連接,並以 20 Hz 的幀速率傳輸全尺寸影像;同時亦提供 USB 介面,用於以 20 Hz 幀速率傳輸 132 × 100 像素的子影像。其自主運作功能可減少對複雜軟體開發的需求,便於輕鬆整合至控制系統中。其他功能包括自動光斑檢測、直接類比輸出(0/4–20 mA),以及與 Ethernet/IP、Modbus TCP/IP、RS485 與 Profinet 等工業現場匯流排協定的相容性,使 Xi 05M 非常適合 OEM 應用並簡化其與工業機械的整合。

此外,Xi 05M 可搭配具備強大功能的軟體平台進行熱影像處理與溫度資料擷取,對研究人員而言亦是一款價格實惠且功能完整的紅外線熱像儀。Optris 亦為系統整合商提供開發套件,以建立特定應用的軟體解決方案。Xi 05M 同時相容於多種專為嚴苛環境設計的配件,例如可將工作溫度範圍擴展至 250°C 的水冷外殼,以及可在多塵環境下保持鏡頭清潔的空氣吹掃裝置,並提供多樣化的機械安裝選項、電氣接口與連接線纜。


Optris Xi 05M ETH 規格

產品型號 Model Number Xi 05M ETH
28° × 21°
Xi 05M ETH
14° × 10°
感測器 Detector
光學解析度 Optical resolution 396 × 300 像素 396 × 300 像素
像素間距 Pixel pitch 15 µm 15 µm
感測器 Detector CMOS CMOS
光譜範圍 Spectral Range 500–540 nm 500–540 nm
光學濾光片 Optical Filter 無 無
幀率 Frame rate 全解析度:20 Hz(乙太網路)
子幀模式:20 Hz(USB,自主)
線掃描:500 Hz(乙太網,獨立)
光學 Optical
視野 Field of View 28° × 21° 14° × 10°
焦距 Focal length [mm] 12.0 25.0
F值/光圈值 F Number 2.0 2.8
光學分辨率 Distance to Spot ratio (D:S) 195 : 1 400 : 1
目標最小距離 Minimum Distance to target 300 mm 300 mm
可互換光學元件 Interchangeable optics 不可更換 不可更換
測量 Measurement
目標溫度範圍 Object Measurement Range 900–2450 °C 900–2450 °C
精度 Accuracy 對於溫度低於 2000 °C 的物體:20 Hz 和 500 Hz 頻率下讀數的 ±1%。
對於溫度高於 2000 °C 的物體:20 Hz 和 500 Hz 頻率下讀數的 ±2%。
熱靈敏度 NETD < 2.5 K (< 1800 °C) / 1800 °C) < 2.5 K (< 1800 °C) / 1800 °C)
最小可偵測光斑尺寸(IFOV):1 像素 Smallest detectable Spot Size IFOV: 1 pixel 0.7 mm 0.19 mm
最小可測量光斑尺寸 Smallest measurable Spot Size MFOV 2.8 mm 0.8 mm
測量視場 MFOV Measurement Field of View 4 × 4 像素 4 × 4 像素
熱機時間 Warm-up time 10 min 10 min
發射率/透射率/反射率 Emissivity / Transmissivity / Reflectivity 可調整範圍:
0.100–1.100
可調整範圍:
0.100–1.100
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